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論文

LOCA環境を逐次で加える際の照射条件の検討

伊藤政幸; 日馬康雄; 岡田漱平; 八木敏明; 吉田健三; 川上和市郎

EIM-88-137, p.59 - 69, 1988/12

LOCA模擬環境を逐次で加える際の放射線の照射条件を比較検討した。室温で1.0kGy/hでの照射(1)、時間短縮照射条件として70 $^{circ}$ Cの空気中で5.0kGy/hでの照射(2)と酸素加圧(0.5Mpa)で4.2kGy/hでの照射(3)の三条件である。線量はすべて1.5MGyとした。照射後試料を120 $^{circ}$ Cの蒸気-ケミカルスプレー環境(SC)およびSCに酸素を0.05MPa加えた環境(SCA)とに暴露した。暴露時間を変えた試料について機械的性質と絶縁抵抗値を測定した。